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电镀废水处理设备化学沉淀法
时间:2020-09-11 点击次数:34

电镀废水处理设备为了增加机械材料的耐受性和工艺价值,电镀在制造业中是极其普遍的加工业之一,其应用范围包括种类繁多,如的五金、线路板和半导体器件等,甚至在航空航天、国防建设等重要行业也广泛应用。然而由于电镀层氰化物是含有剧毒的,而且随着电镀工业发展,电镀业排放的电镀废水处理设备量也越来越大。对于镀铜电镀废水处理设备处理的技术要求越来越高,需求也越来越迫切。


,国内电镀行业大多采用化学沉淀法处理含重金属离子电镀废水处理设备,但由于不同的重金属离子生成氢氧化物沉淀的pH值不同[1-2];而且某些重金属离子与溶液中其他配位离子形成高配比的配位物,增加了在水中的溶解度,所以处理效果不理想。我厂自建厂以来,对酸性镀铜电镀废水处理设备采取化学沉淀法能有效处理;而对焦磷酸盐镀铜电镀废水处理设备的处理存在一定的难度。现就焦磷酸盐镀铜工艺,研究所含[Cu(P2O7)2]6-配位离子电镀废水处理设备中铜的处理。焦磷酸盐镀铜液主要成分是焦磷酸铜和高浓度的焦磷酸钾,其中铜以[Cu(P2O7)2]6-配位离子存在,在镀液和清洗水中属于完全溶解状态,焦磷酸盐镀铜液pH值介于8~9之间,采用中和沉淀控制pH值8的方法,显然难以将[Cu(P2O7)2]6-配位离子中的铜进行去除。焦磷酸盐镀铜液中焦磷酸盐浓度高,溶液呈碱性,溶液粘度相当大,在电镀过程中随工件带出,不仅镀液损耗大,而且造成污物排放量大。本文对焦磷酸盐镀铜电镀废水处理设备采用减废处理技术,减少铜对环境的污染。这不仅不会增加企业的生产成本,而且可以大幅度地减少原材料的消耗和废物、电镀废水处理设备的排放,方法简便易行。1“槽边回收+氢氧化钠沉淀”法[Cu(P2O7)2]6-配位离子的不稳定常数K不

用水解中和沉淀、氧化-水解中和沉淀、取代及化学还原法处理化学镀铜电镀废水处理设备的可行性。试验结果表明,用水解中和沉淀法,铜的去除率在14~20%,用氧化-水解中和沉淀法和取代处理法,铜的去除率约为40%。化学还原法的关键在于还原剂的选择。用连二亚硫酸钠处理,效果显著。在更佳操作条件下,出水能稳定达到排放标准,产物沉降性能好,便于回收再利用,是一种简便、实用的方法。 


电镀废水处理设备采用铁碳微电解法处理某印制线路板厂的化学镀铜电镀废水处理设备。介绍了其原理,探究了不同因素对电镀废水处理设备处理效果的影响,得到较优的工艺条件为:初始pH 4.0,铁炭质量比3∶2,铁炭总量25 g/L,曝气量1.6 L/min(对于200 m L电镀废水处理设备而言),处理时间30 min。在较优工艺条件下,出水Cu2+的质量浓度和COD分别为0.19 mg/L和40.52 mg/L,去除率分别为99.5%和70.1%,达到GB 21900–2008中表3的排放要求。



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